AP 系列等離子處理機適用於各種等離子清洗、表面活化和附著力改進應用。
這些功能用於半導體制造、微電子封裝和組裝，以及醫療和生命科學設備製造商。
AP 系列由四個批量等離子處理系統組成，提供小型、中型和大型真空室選項，當客戶從 R&D 環境到各個級別的生產。
 

等離子處理設備特性和優點
 

   • 帶觸摸屏的 PLC 控制器提供直觀的圖形界面和實時過程表示

   • 靈活的擱板設計允許在直接或下游等離子模式下處理各種零件載體

   • 13.56 MHz 射頻發生器具有自動阻抗匹配功能，可實現無與倫比的過程再現性

   • 專有軟件控制系統生成過程和生產數據用於統計過程控制

   • 批量式，每個單元完全獨立，僅需要最小的占地面積

   • 泵、腔體、控制電子元器件和 13.56 MHz 射頻發生器安裝在一個外殼中

等離子處理設備型號和配置
 

AP-300™和AP-600™等離子處理系統： AP-300 和 AP-600 等離子處理系統是台式的，完全獨立，需要最小的工作檯空間。 系統底盤裝有等離子室、控制電子技術行業、13.56 MHz 射頻發生器和自動腔體匹配網絡（只有真空泵在系統外部）。 通過互鎖門或可拆卸面板提供維護訪問。 等離子支持多達 7 個可拆卸和可調節的電動或接地隔板，以容納各種零件、組件和零件載體，包括彈匣、托盤和晶舟。 真空等離子處理系統可以適應各種工藝氣體，包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣和氟化氣體。 兩個型號都標配兩 (2) 個氣體流量控制器，以實現最佳氣體控制，另外兩 (2) 個可選（最多 4 個）。 方便的設施連接，可滿足驗證過程中使用的定期校準要求。
 

AP-1000™ 等離子處理設備：AP-1000 平台允許全面的正面訪問，方便操作所有內部組件。 泵位於滾輪上，便於拆卸。 等離子腔體由 11 號不鏽鋼製成，帶有鋁製固定裝置，具有出色的耐用性。 該腔室有多個可拆卸和可調節的架子，以容納一系列零件載體，包括料盒、托盤、晶圓和  晶舟。 帶有可選 HTP（高通量）隔板的 AP-1000 等離子處理系統將 AP-1000 系統的可靠性和工藝質量與諾信 MARCH 獨特擱板設計的成熟優勢相結合。 AP-1000 HTP 優化了射頻等離子體中反應離子的使用，提高了處理均勻性，同時縮短了處理時間。 AP-1000 HTP 系統允許從一系列工藝氣體中進行選擇，例如氬氣、氫氣和氦氣。 它標配四個氣體流量控制器，以實現最佳氣體控制。 開槽彈匣垂直放置在腔室內。

此外，開槽彈匣可以垂直放置在腔室內。 通常，每個料盒至少包含 20 個引線框架。 AP-1000 等離子腔體最多可容納 12 個料盒，具體取決於料盒大小。